第七十八章 光刻机的重点（第1页）

没了海外发布会的事情，林云倒是轻松许多。

林云在接下来过年之前的日子基本上都会呆在华腾半导体。

华腾半导体才是林云最为重视的业务。

现在的公司内部也开始了对于光刻机技术的研发，公司在这几年也邀请了许多专业的人士进行光刻机的研发。

光刻机的主要组成部分为光学系统和机械系统。

光学系统其中包含着曝光光源透镜，反射镜等一系列的元素的硬件。

它的功能是将掩膜板上的图形投影到硅片上。

而机械系统包括机械平台运动操控系统和自动对位系统，这些系统能够负责精确的控制硅片的位置和移动。

同时光刻机也会根据光源的波长不同进行进一步的光源划分。

其中光源的划分分为可见光，紫外光，深紫外光以及极紫外光几大类型。

光刻机的工作原理说起来也非常的简单。

曝光和显影！

曝光的过程是将掩膜板上的图形通过光学系统投影到硅片。

这个过程需要先准备好光源，通过一系列的光源能量形状控制的手段将光束透射过画着线路的掩膜板。

这种控制光束的形状大小的方式被我们俗称为芯片制程。

经过物镜进行光学的误差补偿，将线路图以等比例缩小的方式映射在硅片上面。

接着利用化学的方式进行显影得到硅片上的电路图。

这就是光刻机的使用的工作原理。

具体来说光刻机在利用光源发出的光，通过具体的光照对图有光刻胶的薄片曝光，光刻胶在进光之后会发生性质变化，从而使得光照上的图形复印在薄片上。

总体来说，光刻机的工作原理类似于照相机拍照，通过光学成像的原理将一些电路图映射到光刻胶上从而打印到硅片上。

光刻机生产困难的原因其实有很多。

首先光刻机在技术难度非常的巨大。

光刻机的生产需要极高精密度的技术和工艺水平，涉及到光学，材料学，计算机科学等多个领域。

另外，光刻机的制造成本非常的高昂，光刻机需要大量的资金投入，涉及到各种高精密度的仪器设备的购买和维护，以及大量技术人员的聘用和培训。

同时光刻机也是一种高复杂的设备，需要专门的人员进行定期的维护和保养，否则会出现设备故障影影响到生产的效率。

目前的整个全球能够自主生产光刻机的公司也就只有三家，而这三家公司所生产的光刻机的元器件来自于全球最为顶尖的科技公司。

这些精密的元器件的生产难度和运输难度都非常巨大。

目前光刻机之中最难的则是在光学变量的控制上面。

光学投影是光刻机目前主要采用的方式。

光刻机通过精准的光源能量和形状控制手段，将光束透过描述的电路图案的掩膜版，再经过物镜修正的各种光学误差，将电路图以等比例的方式缩小在硅片上。

光学投影最大的难度是要在保持较高精准度的同时提升相对的效率，就比如说你如何将光缩减到几纳米的同时也能够精准的映射在硅片上。

这不仅需要将光缩小，同时也要保证光拥有着足够的亮度和能源来保证能够在硅片上进行映射。

也正因如此在保证光束的精准度的同时，又要保证较高的效率，这成为了光刻机技术突破的最大难题。